2024年1月31日，據(jù)國家知識產(chǎn)權(quán)局公告，山東赫達(dá)集團(tuán)股份有限公司申請一項(xiàng)名為“一種量子點(diǎn)/HPMC/鹵氧化鉍復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用“，公開號CN117463396A，申請日期為2023年12月。專利摘要顯示，本發(fā)明提供一種量子點(diǎn)/HPMC/鹵氧化鉍復(fù)合材料及其制備方法和應(yīng)用，屬于有機(jī)u001E無機(jī)復(fù)合材料技術(shù)領(lǐng)域，包含鹵氧化鉍、HPMC和量子點(diǎn)顆粒，所述HPMC緊密包裹在鹵氧化鉍納米片的表面，并通過HPMC將量子點(diǎn)顆粒緊密粘附在鹵氧化鉍納米片表面；通過液相剝離法從塊體中提取出量子點(diǎn)溶液，將HPMC溶于量子點(diǎn)溶液中，得到黏性膠液A，將鹵氧化鉍粉體分散于膠液A中，進(jìn)行超聲后攪拌，得到懸濁膠液B，最后經(jīng)過烘干、粉碎等步驟得到成品。本發(fā)明復(fù)合材料能夠顯著提升光生載流子的轉(zhuǎn)移效率，且構(gòu)建的異質(zhì)結(jié)結(jié)構(gòu)結(jié)合緊密、不易脫落，同時(shí)制備方法精簡，原材料易得、安全。

備注：數(shù)據(jù)僅供參考，不作為投資依據(jù)。