中證網(wǎng)訊（記者楊潔）根據(jù)解放日?qǐng)?bào)12月18日消息，近期中微半導(dǎo)體自主研制的5納米等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線。5納米相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的二萬分之一，是集成電路制程工藝最小線寬。臺(tái)積電宣布2019年將進(jìn)行5納米制程試產(chǎn)、預(yù)計(jì)2020年量產(chǎn)。

刻蝕機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵設(shè)備之一，曾一度是發(fā)達(dá)國(guó)家的出口管制產(chǎn)品。中微半導(dǎo)體聯(lián)合創(chuàng)始人倪圖強(qiáng)表示，中微與泛林、應(yīng)用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)，組成了國(guó)際第一梯隊(duì)，為7納米芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機(jī)，如今通過臺(tái)積電驗(yàn)證的5納米刻蝕機(jī)，預(yù)計(jì)能獲得比7納米更大的市場(chǎng)份額。

中微半導(dǎo)體是2004年由尹志堯博士與杜志游博士、倪圖強(qiáng)博士、麥?zhǔn)肆x博士等40多位半導(dǎo)體設(shè)備專家創(chuàng)辦，主要深耕集成刻蝕機(jī)領(lǐng)域，研制出中國(guó)大陸第一臺(tái)電介質(zhì)刻蝕機(jī)。

目前，中微半導(dǎo)體的介質(zhì)刻蝕設(shè)備、硅通孔刻蝕設(shè)備、MOCVD設(shè)備等均已成功進(jìn)入國(guó)內(nèi)外重要客戶供應(yīng)體系。截至2017年底，已有620多個(gè)中微半導(dǎo)體生產(chǎn)的刻蝕反應(yīng)臺(tái)運(yùn)行在海內(nèi)外39條先進(jìn)生產(chǎn)線上。

根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)數(shù)據(jù)，2018年第三季度中國(guó)大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額首次超越韓國(guó)，預(yù)計(jì)明年將成為全球最大半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)，包括中微半導(dǎo)體、北方華創(chuàng)在內(nèi)的國(guó)產(chǎn)設(shè)備廠商有望提高設(shè)備滲透率。

備注：數(shù)據(jù)僅供參考，不作為投資依據(jù)。